L’Ufficio Brevetti e Marchi statunitense ha annunciato di aver depositato lo strumento per la ratifica dell’Accordo dell’Aia inerente la registrazione dei disegni industriali attraverso un’unica procedura prevista dal WIPO di Ginevra.
Il trattato produrrà i suoi effetti a decorrere dal 13 maggio 2015.
Attualmente, qualora un soggetto voglia depositare un disegno industriale negli Stati Uniti deve farlo con una procedura autonoma di deposito, senza la possibilità di avvalersi di accordi tra stati. Dal 13 maggio 2015 i titolari di un disegno industriale che vogliano estenderlo agli Stati Uniti, potranno avvalersi della procedura unificata di deposito con la quale sarà possibile depositare in numerosi stati che già aderiscono all’Accordo dell’Aia. Viceversa, i cittadini statunitensi potranno avvalersi di un’unica procedura di deposito di disegni industriali per depositare in numerosi Paesi attraverso un’unica domanda, ottenendo così una protezione in numerosi territori.
L’accesso degli Stati Uniti all’Accordo dell’Aia comporterà notevoli risparmi per i titolari di disegni industriali, siano essi statunitensi che stranieri.
Michelle K. Lee, deputy director dell’USPTO, si ritiene felice per l’adesione all’Accordo dell’Aia e ritiene che continuerà a espandersi e facilitare la tutela dei disegni industriali.
Ovviamente, l’adesione all’Accordo dell’Aia non comporterà la sospensione dei depositi di disegni industriali nazionali negli Stati Uniti ma si affiancherà a tale tutela per concedere ai titolari una maggiore tutela a costi ridotti.
A breve l’Ufficio Brevetti e Marchi statunitense pubblicherà, nel Registro Federale, le linee guida che disciplineranno la procedura di deposito ed esame delle domande internazionali di disegni industriali attraverso l’Accordo dell’Aia.
Si ritiene che il sistema dell’Aia crescerà nei prossimi anni anche attraverso l’adesione di nuovi Paesi come il Giappone, che dovrebbe aderire a breve e altri Paesi quali Canada, Cina e Russia che stanno elaborando la strategia di ingresso nell’Accordo dell’Aia.
